第291章 半导体提议，光刻厂！(2/4)

可现在王逸今非昔比，成了大名鼎鼎的王董，让bat都不敢小觑。

那就完全不一样了。

这个提议也开始被关注，被重视。

最后结果自然很美好。

秦主任没说的是，支付牌照能这么快就给星逸科技，一方面是星逸科技发展速度恐怖，前景无限，实力不俗。

尤其是星逸xphone1彻底卖爆，证明王逸是实干派，星逸科技是真有实力，而不是炒作派。

另一方面则是王逸提议半导体全产业链国产化，以及智能手机产业链国产化！

这些提议都赢得官方重视，认可，推行。

作为提议者，王逸和星逸科技也因此走到了高层视野中，因此被肯定，支持。

再加上王逸收购高德，让高德从美股退市，后续大a上市，保护郭家战略安全的觉悟，也加分不少！

还有星逸科技在智能手机，半导体，数据中心等高科技领域的产业布局，也被官方肯定，赞许。

若是星逸科技只是个卖衣服的，做美妆的，没有这些高净值产业布局，那也不值一提。

以上四个方面缺一不可，才让支付牌照提前半年，就给办了！

但凡少一个点，这事都难！

王逸做的这些布局，都布到了高层心里。

发展的事业和方向，也都是利国利民。

很难不支持。

王逸笑说：“有了国家机器出手，duv光刻机估计五年左右就能实现国产突破。至于euv光刻机，会费事一点，但也只是时间问题，早晚都会突破的！”

秦主任却没有这么乐观：“duv光刻机已经投入巨资，开始研发了，五年内有希望。而euv光刻机项目，却难度很大，不容乐观。不过，官方是将euv光刻机和duv光刻机，同步开始推进的！”

王逸明白了，两种光刻机是两代技术，或者说euv光刻机是全新的技术。

所以没必要等几年后研发出duv光刻机，再推进euv光刻机研发，这样太慢了。

相反直接立项，两代产品，两代技术，一同研发！

如此魄力，王逸都很佩服。

索性道：“euv光刻机的确困难，需要的上下游产业链太多，咱们差得很远。但换个思路，如果euv光刻机不好做，做一个euv光刻厂……会不会容易一点？”

“euv光刻厂？”秦主任眼睛一亮：“你详细说一说。”

王逸略微思忖，刚想开口，却被秦主任直接打断：

“王董，你稍等下，这种严密的技术性问题，我也不在行，可否让我录个视频，回去给专家院士看？”

“没问题。”王逸摆了摆手。

“谢谢！”秦主任和蔼一笑，当即拿出星逸xphone1，打开视频录制：“好了，王董，请继续说。”

王逸点点头：“众所周知，阿斯麦的euv光刻机之所以厉害，能做到5纳米以下的芯片制程，就是因为它能制造5纳米的极紫外光源，这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”

“而duv光刻机的深紫外光源，最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术，才能量产7纳米，5纳米。甚至5纳米的良品率都不高，成本却不低。至于5纳米以上的4纳米，3纳米，那更不现实，只能靠euv光刻机的极紫外光源。”

“同样，我们本质上需要的不是euv光刻机，而是5纳米的极紫外光源！”

“euv光刻机我们目前造不了，未来难度也很大。但是我们反其道而行，通过其他方式，实现极紫外光源，也能制造出4纳米，3纳米，甚至2纳米，1纳米芯片。”

“比如我之前提到的光刻厂！”王逸顿了顿，继续道：

“建一个光刻厂，通过粒子对撞，实现极紫外光源，然后通过光刻厂的模式，实现euv光刻机的效果。”

……

“当然，我并非半导体专业人士，以上内容只是基于我不成熟的想法，随口一说。”

“能不能实现，我就不知道了。若是不能实现，还请各位大佬海涵。”

至于能不能实现，他也不知道，但理论上应该可以。

前世华清大学的euv光刻机，就是要走这个路线，完全不同于阿斯麦的技术路线。

若是真能实现，直接从根源上避开了阿斯麦的专利。

毕竟极紫外光源的产生方式都不一样，也就没有侵犯专利这一说了。

国产技术突破的难度，不只是要做出同样的产品和等效的技术，还要避开西方的专利壁垒，采取完全不同的技术路线。

这就难上加难了。

但即便如此，前世依旧把工业皇冠上的明珠，差点全部摘秃噜皮。

秦主任笑着伸出手：“谢谢，你这些观点很重要，我这就上报。无论如何，都很感谢。”

“主任言重了，若是我说得不对，你们就当我瞎说，海涵。”

“呵呵，那不会。科学的探索本就是知无不言，言无不尽。何况是这么别出心裁的建议，意义重大！”

王逸摆了摆手：“不成熟的想法罢了，希望有点参考价值。光刻机这个东西难，光刻胶也难，都得看国家机器了。”

秦主任点点头：“放心，光刻胶也是官方大力扶持的领域，必须突破！”

王逸松了口气，若是这些难题官方都逐步搞定，那就稳了。

又交流了一番，王逸离开管委会。

而秦主任则直奔某机要之地，汇报王逸的想法。

不管成不成的，都是一个新的思路，让院士